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米乐官网版:1nm!ASML全新光刻机的多个信息来了


2021-12-15 | 作者:米乐投注网


  在光刻机领域内,ASML是绕不开的论题,原因是ASML研制制作的光刻机最先进,尤其是EUV光刻机,现在仅有ASML可以研制制作。

  最主要的是,EUV光刻机是出产制作7nm以下芯片的必要设备,从其被研制制作出来那一刻开端,EUV光刻机就求过于供,至今还积压了几十亿欧元的订单。

  在这样的情况下,ASML一边提高EUV光刻机的产能,估计往后两年出产制作115台EUV光刻机,一边研制制作全新一代EUV光刻机,其便是NA值为0.55的EUV光刻机。

  据悉,现在ASML正在研制制作全新一代EUV光刻机,其被命名为NA EUV光刻机,而NA更是高达0.55,比较现有的NA值为0.33的EUV光刻机而言,有显着的提高。

  当然,全新一代光刻机的NA值提高,意味着光刻机精度更高,可以出产制作更小面积的芯片,乃至可达1nm。

  要知道,台积电、三星都计划在2024年量产2nm制程的芯片,而ASML全新一代EUV光刻机也计划在2023年交给厂商研制测验,2024年规划量产。

  这意味着ASML的全新一代光刻机至少可以将芯片面积缩小到1nm,不然,仅用于出产3nm、2nm等制程芯片,实在是有点糟蹋。

  别的,ASML全新一代光刻机的精度提高了,其工作功率也将随之提高。现在,升级版的EUV光刻机,每小时可以曝光晶圆大约是170片12寸晶圆。

  也便是说,2024年量产的全新一代NA EUV光刻机,但在单位时间里天然可以曝光更多12寸晶圆,芯片出产制作速度天然也随之增快。

  不过,全新一代NA EUV光刻机的精度和出产功率等都得到了提高,这意味其工艺更杂乱,本钱也更高了。

  音讯称,全新一代EUV光刻机的体积将会更大,高度都将挨着房顶,运送起来天然也要比现有的EUV光刻机需求更多货车等设备。

  关键是,其价格也将起伏上涨,现有的EUV光刻机的价格在1亿多美元,而新一代NA EUV光刻机的手机将会高达3亿美元,折合人民币19亿元左右。

  还有一点,ASML现已将升级版的EUV光刻机优先给了英特尔,而英特尔也表明将会尽力优先拿到了全新一代NA EUV光刻机。

  由于英特尔是ASML的大股东之一,再加上,英特尔现已拟定了芯片方针,并获得了IBM的2nm芯片出产制作技能,这些都需求最先进的光刻机来完成。

  都知道,ASML的EUV光刻机是不能自在出货的,即便是ASML屡次争夺,但日前仍是表明,EUV光刻机暂时无法自在出货。

  不只如此,EUV光刻机出货装置到外企我国分厂也受到了阻止,不过,韩国芯片巨子SK正在积极争夺为我国工厂引入EUV光刻机,并表明现在发展顺畅。

  现在,ASML的全新一代光刻机传来新音讯,不只精度和功率得到了提高,关键是,将会在2023年交给厂商研制测验,这或将改动出货自在成果。

  由于EUV光刻机是当下最先进的光刻机,这是其不能自在出货的主因,而全新的NA EUV光刻机交给后,现有的EUV光刻机就不再是最先进的光刻机。

  别的,各大芯片厂商都在加快购买EUV光刻机,无论是处理器芯片仍是贮存芯片都在遍及EUV工艺,而ASML也想方设法提高EUV光刻机的产能。

  也便是说,NA EUV光刻机在2023年交给测验时,EUV工艺或许就现已遍及,到时,EUV光刻机或许就可以自在出货了。回来搜狐,检查更多



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